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基于分析薄膜表面和界面反射光相干涉形成的反射譜，實現(xiàn)各種介質(zhì)保護膜、半導體薄膜、玻璃鍍膜等膜厚快速表征

通過橢偏參數(shù)、透射/反射等參數(shù)測量，實現(xiàn)各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學常數(shù)快速表征

ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術，包括消色差補償器、雙旋轉(zhuǎn)...